英伟达推出CuLitho软件加速库，光刻加速40倍 ，芯片产能释放
近日 ，英伟达春季GTC技术大会上宣布推出了cuLitho软件加速库 ，该技术可将计算光刻的用时提速40倍以上。
这是一项重要的技术创新，将为芯片制造业带来更快、更高效的生产模式 。
芯片制造是一项极其复杂的工艺 ，制造一枚芯片需要多次曝光，而每次曝光都需要使用掩膜 。
以NVIDIA H100为例 ，这款芯片需要使用89张掩膜，而Intel的14nm CPU则需要50多张掩膜。
过去，计算光刻依赖于CPU服务器集群 ，效率低下，速度慢，往往需要数小时甚至数天的时间来完成。
cuLitho软件加速库的推出 ，将彻底改变这一状况。
使用500套DGX H100（每套包含4000颗Hopper GPU）就可以完成与4万颗CPU运算服务器相同的工作量 ，而且速度快40倍 ，功耗低9倍 。
这不仅提高了生产效率，而且有助于节省能源和资源成本 。
此外，英伟达还表示 ，该技术可以在芯片生产中实现更加精细化的控制 ，提高芯片的制造质量和稳定性。
在全球范围内 ，芯片制造业正处于高速发展期 ，技术的创新将极大地促进行业的发展，提高生产效率 ，降低制造成本，同时也为人们的生活带来更多便利和创新 。#头条创作挑战赛##春日暖帖破冰行动##我在头条对她说##我要上头条##我要上 头条#
